Tóm tắt: Trong môi trường nước vòng sơ cấp lò phản ứng nước áp lực, nồng độ ion Clorua luôn được kiểm soát dưới ngưỡng 0,05ppm (50 ppb), do đó các nghiên cứu ảnh hưởng của ion Clorua trong môi trường nước sơ cấp lò phản ứng nước áp lực PWR (Pressured Water Reactor) đến ăn mòn của vật liệu là rất cần thiết. Trong nghiên cứu này, phép đo điện hóa được sử dụng là theo dõi thế điện hóa mạch hở OCP (Open Circuit Potential) theo thời gian; hai vật liệu được sử dụng là C45 và thép không rỉ SS304; các mẫu dung dịch điện li nghiên cứu có nồng độ ion Clorua biến thiên trong khoảng 0,1-1M; điều kiện thử nghiệm nhiệt độ phòng. Kết quả nghiên cứu cho thấy, ở điều kiện nhiệt độ phòng, ion Clorua tăng tốc quá trình ăn mòn trong trường hợp thép C45; với thép không rỉ SS304, tác động của ion Clorua là không rõ rệt.
Từ khóa: thế điện hóa mạch hở OCP , thép Cacbon C45, thép không rỉ SS304, ion Clorua.