Tóm tắt
Kỹ thuật pha tạp đơn tinh thể Silic (NTD-Si) thông qua việc chiếu xạ bằng neutron nhiệt trên các lò phản ứng nghiên cứu trên thế giới đã và đang được triển khai có hiệu quả nhằm tạo ra các thiết bị bán dẫn chất lượng cao. Tại Việt Nam, kỹ thuật chiếu xạ pha tạp đơn tinh thể Silic trên lò phản ứng chưa được triển khai nghiên cứu. Do vậy, việc thiết kế, thử nghiệm kênh chiếu xạ phục vụ NTD-Si trên Lò phản ứng hạt nhân Đà Lạt (LPƯ Đà Lạt) là rất cần thiết nhằm có những bước đi ban đầu trong lĩnh vực NTD-Si. Báo cáo này trình bày kết quả thiết kế và thử nghiệm kênh chiếu xạ sử dụng phương pháp màn chắn phục vụ thử nghiệm NTD-Si trên LPƯ Đà Lạt bằng thực nghiệm và tính toán sử dụng chương trình MCNP5. Các nội dung quan trọng được trình bày bao gồm việc khảo sát phổ và phân bố thông lượng neutron tại vị trí chiếu xạ bằng thực nghiệm và tính toán. Từ các kết quả thu được, kênh chiếu xạ sử dụng phương pháp màn chắn phục vụ thử nghiệm NTD-Si đã được thiết kế, chế tạo và lắp đặt.Việc chiếu xạ thử nghiệm với nhôm, vật liệu thay thế có tính chất tương đương Silic cũng được tiến hành nhằm khẳng định thiết kế tối ưu của kênh chiếu xạ trước khi có thể tiến hành chiếu xạ thử nghiệm trên các thỏi Silic. Các kết quả thu được cho thấy kênh chiếu xạ mới được thiết kế đảm bảo các yêu cầu phục vụ thử nghiệm NTD-Si trên LPƯ Đà Lạt với độ đồng đều thông lượng neutron nhiệt chiếu xạ nhỏ hơn 5% theo chiều cao và 3% theo bán kính.
Từ khóa: Chiếu xạ pha tạp đơn tinh thể Silic (NTD-Si), MCNP5, lò phản ứng hạt nhân Đà Lạt (DNRR), phương pháp màn chắn, phương pháp kích hoạt lá dò, kênh chiếu xạ NTD-Si.